थर्मल CTP प्लेट के इमेजिंग तंत्र
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डेटा बताते हैं कि 2003 में CTP प्लेट कुल वैश्विक प्लेट का लगभग 30% था, और 2007 तक 60% से अधिक तक पहुंचने की उम्मीद है। उनमें से, थर्मल CTP तकनीक वर्तमान में सबसे तेजी से बढ़ रही है। वैश्विक थर्मल CTP ने कुल 60% के लिए क्षमता खातों को स्थापित किया है, और यह चीन में 55% से अधिक के लिए जिम्मेदार है। थर्मल प्रौद्योगिकी इतनी तेजी से विकसित हुई है, इसका कारण यह है कि इसमें उच्च मुद्रण स्थायित्व, उच्च संकल्प और उज्ज्वल कमरे के संचालन के फायदे हैं, और इसे CTP प्रौद्योगिकी के भविष्य के विकास की दिशा के रूप में मान्यता प्राप्त है।
कई प्रकार के थर्मल CTP प्लेट विश्व प्रसिद्ध प्लेट आपूर्तिकर्ताओं द्वारा विकसित किए गए हैं। थर्मल CTP संस्करण को दो प्रकारों में विभाजित किया गया है: नकारात्मक छवि प्रकार और सकारात्मक छवि प्रकार। अवरक्त स्कैनिंग के प्रदर्शन के दौरान नकारात्मक छवि प्रकार का CTP संस्करण आंशिक रूप से उजागर होता है, और सकारात्मक छवि प्रकार गैर-ग्राफ़िक आंशिक प्रदर्शन होता है। इसके अलावा, CTP प्लेट जिसे एक्सपोज़र-फ्री प्लेट कहा जाता है, एक्सपोज़र के बाद विकास की आवश्यकता नहीं होती है, और यह वर्तमान में अपने प्लेट आपूर्तिकर्ताओं के लिए एक गर्म स्थान है। थर्मल CTP संस्करण का इमेजिंग तंत्र विविध है, और CTP संस्करण को इसके अंतर के अनुसार वर्गीकृत किया जा सकता है। निम्नलिखित इमेजिंग तंत्र और विभिन्न थर्मल CTP प्लेटों के अनुप्रयोग का वर्णन करता है।
1, नकारात्मक प्रकार थर्मल CTP प्लेट सामग्री
1.1 हीट-क्रॉसलिंकड नेगेटिव इमेज CTP वर्जन को विकास से पहले प्री-हीट कर दिया गया
यह जल्द से जल्द विकसित उत्पाद है, प्रौद्योगिकी बहुत परिपक्व, व्यावसायीकरण, व्यावहारिकता और अनुप्रयोग है। वर्तमान में, सभी प्लेट आपूर्तिकर्ताओं का उत्पादन होता है।
इस तरह की प्लेटें आमतौर पर एक दानेदार और एनोडाइज्ड या लेपित पॉलिएस्टर सब्सट्रेट में गर्मी संवेदनशील परत को समान रूप से लगाकर बनाई जाती हैं। हीट सेंसिटिव लेयर में आमतौर पर रेजिन बनाने वाली फिल्म, एक क्रॉसलिंकिंग एजेंट, एक इंफ्रारेड एब्सॉर्बिंग डाई और एक फोटोथर्मल एसिड जनरेटर शामिल होता है। इमेजिंग तंत्र है: जब अवरक्त प्रकाश प्लेट को रोशन करता है, तो अवरक्त डाई प्रकाश ऊर्जा को ऊष्मा ऊर्जा में अवशोषित करता है, और एसिड जनरेटर एसिड उत्पन्न करता है। एसिड के उत्प्रेरक के तहत, एक अव्यक्त छवि बनाने के लिए उजागर क्षेत्र में राल को क्रॉसलिंक किया जाता है। प्री-हीट उपचार के बाद, उजागर क्षेत्र में राल पर्याप्त रूप से क्रॉस-लिंक्ड है, और गैर-उजागर क्षेत्र प्रतिक्रिया नहीं करता है। गैर-उजागर क्षेत्रों को लाइ विकास द्वारा हटा दिया गया था।
1.2 आधार इंक-इंजेक्टेड नकारात्मक CTP प्लेट
इस तरह की प्लेटें आम तौर पर पानी रहित ऑफसेट प्लेटें होती हैं, जिनमें से एल्यूमीनियम आधारित सतह हाइड्रोफिलिक धातु ऑक्साइड की एक परत होती है, जो वास्तव में स्याही-ग्रहणशील भी होती है। प्लेट सामग्री का अंडरकोट एक फोटोडेकोमोसेसरी प्रकार का होता है और एक सहज इमेजिंग परत और संबंध प्लेट और शीर्ष कोट के लिए बाइंडर राल के रूप में कार्य करता है। शीर्ष कोट एक क्रॉस-लिंक किया गया, ठीक किया गया सिलिकॉन रबर है जो ओलेओफोबिक है और अवरक्त विकिरण को अवशोषित नहीं करता है।
इसकी इमेजिंग तंत्र है: जब अवरक्त प्रकाश प्लेट को रोशन करता है, तो अंडरकोट परत फोटोडेकोपोजिशन प्रतिक्रिया से गुजरती है, और उजागर क्षेत्र में बाइंडर राल और सिलिकॉन रबर के बीच आसंजन कम हो जाता है, और उजागर क्षेत्र में सिलिकॉन रबर को विकास के दौरान हटा दिया जाता है और अपघटन किया जाता है। कोटिंग राल स्याही-विकर्षक छवि के एक हिस्से को बनाने के लिए सब्सट्रेट की सतह को उजागर करता है।
इस तरह के मीडिया के बाद के एक्सपोजर डेवलपमेंट आमतौर पर सिलिका जेल को हटाने के लिए मैकेनिकल स्ट्रिपिंग या सॉल्वेंट क्लीनिंग का उपयोग करते हैं। इसलिए, लेआउट को नुकसान पहुंचाने के लिए सिलिकॉन परत को विकास के दौरान खरोंच या रगड़ दिया जा सकता है। इसके अलावा, KPG ने एक प्रक्रिया-मुक्त आधार-आधारित इंक-आधारित CTP संस्करण विकसित किया है, जिसे बाद में वर्णित किया जाएगा।
2, सकारात्मक-प्रकार थर्मल CTP प्लेट सामग्री
2.1 घुलनशीलता परिवर्तन सकारात्मक छवि CTP प्लेट सामग्री
इस तरह की प्लेट की संरचना आमतौर पर एक हाइड्रोफिलिक प्लेट पर गर्मी संवेदनशील परत के साथ लेपित होती है, और गर्मी संवेदनशील परत एक क्षारीय विकासशील समाधान में अघुलनशील होती है और स्याही-ग्रहणशील होती है। इमेजिंग तंत्र है: जब अवरक्त लेजर को स्कैन किया जाता है, तो उजागर क्षेत्र शारीरिक या रासायनिक रूप से बदलकर क्षारीय पानी में घुलनशील हो जाता है, और उजागर भाग को क्षार के विकासशील समाधान द्वारा हटा दिया जाता है।
पेटेंट तकनीक यह है कि गर्मी संवेदनशील परत एक फिल्म बनाने वाली राल, एक अवरक्त अवशोषित एजेंट, एक प्रतिरोध विलायक और अन्य सहायक से बना है। एक्सपोज़र से पहले, प्रतिरोधक विलायक फिल्म-बनाने वाले राल के साथ हाइड्रोजन बॉन्ड एसोसिएशन बनाता है, जिससे एक बाधा प्रभाव होता है जिससे लाइ में घुलना मुश्किल हो जाता है। अवरक्त एक्सपोज़र के मामले में, इन्फ्रारेड एब्ज़ॉर्बिंग एजेंट ऊष्मा उत्पन्न करता है, जिससे कि समझदार रचना विघटित और संयुक्त हो जाती है, जिससे विकास इमेजिंग प्राप्त करने के लिए लाइ में घुलनशीलता बढ़ जाती है। इस प्रक्रिया को आमतौर पर शारीरिक परिवर्तन की एक प्रक्रिया माना जाता है। इस तरह की इमेजिंग परतों में क्षार घुलनशील पॉलिमर और अवरक्त संवेदनशील त्वचा परतें शामिल होती हैं जो डेवलपर द्वारा प्रवेश नहीं की जाती हैं।
2.2 थर्मल क्रॉस-लिंकिंग CTP प्लेट को प्रीहीटिंग के साथ
इसकी इमेजिंग संरचना में एक क्षार घुलनशील राल, एक अव्यक्त प्रोटिक एसिड, एक क्रॉसलिंकिंग एजेंट और एक अवरक्त अवशोषक (कार्बन ब्लैक) शामिल हैं। इमेजिंग तंत्र है: जब अवरक्त लेजर को विकिरणित किया जाता है, तो उजागर क्षेत्र का अज्ञात प्रभाव अभी भी अच्छी क्षार विलेयता को बनाए रख सकता है; अनपेक्षित भाग परिवर्तित नहीं होता है। विकास से पहले प्री-हीट उपचार प्रक्रिया के दौरान, एक-उत्प्रेरित प्रतिक्रिया (एक अव्यक्त प्रोटोनिक एसिड की उपस्थिति) के आधार पर unexposed क्षेत्र थर्मल क्रॉसलिंकिंग इलाज से गुजरता है, जो क्षार विलेयता को कम करता है; जबकि उजागर क्षेत्र क्षार-घुलनशील रहता है। क्षारीय विकासशील समाधान विकास के दौरान उजागर भाग को हटा देता है।
प्लेट इमेजिंग की यह प्रक्रिया पारंपरिक हीट-क्रॉसलिंकड नकारात्मक CTP संस्करण के बिल्कुल विपरीत है, जिसमें क्रॉस-लिंक्ड और गैर-क्रॉस-लिंक किए गए भाग बस समायोजित किए जाते हैं। इसका कारण यह है कि इस्तेमाल किया जाने वाला अवरक्त अवशोषित एजेंट नकारात्मक पैटर्न से अलग है, जिसमें कार्बन ब्लैक और इंफ्रारेड एक्सपोज़र द्वारा उत्पन्न प्रोटोनिक एसिड का एक अज्ञात प्रभाव होता है, ताकि उजागर क्षेत्र अभी भी क्षार विलेयता बनाए रख सके।
3, CTP प्लेट सामग्री के प्रसंस्करण से मुक्त
आंकड़ों के अनुसार, सभी कंपनियों ने प्रमुख अनुसंधान दिशा के रूप में उपचार-मुक्त थर्मल CTP प्लेट ले ली है, और बड़ी संख्या में डिजाइन योजनाएं प्रस्तावित की हैं, और नई योजनाएं लगातार प्रस्तावित की जा रही हैं। ऐसा इसलिए है क्योंकि इस तरह की प्लेट विकास प्रसंस्करण लागत को बचा सकती है और दक्षता में सुधार कर सकती है।
3.1 ध्रुवीयता परिवर्तन प्रकार प्रसंस्करण-मुक्त CTP प्लेट
इस तरह की प्लेट का इमेजिंग तंत्र यह है कि संपूर्ण लेआउट आमतौर पर एक्सपोज़र से पहले हाइड्रोफिलिक होता है, और उजागर क्षेत्र की ध्रुवीयता अवरक्त स्कैनिंग के दौरान बदल जाती है। यह परिवर्तन भौतिक या रासायनिक हो सकता है। इस हिस्से को हाइड्रोफिलिक से ओलेओफिलिक बनाया जाता है। प्रिंटिंग प्लेट के उजागर होने के बाद, विकास प्रक्रिया को अंजाम देना आवश्यक नहीं है, अर्थात, मुद्रण आवश्यकताओं को संतुष्ट किया जाता है। इस प्रक्रिया को चित्र 5 में दिखाया गया है। बेशक, कुछ ऐसे डिज़ाइन भी हैं जो पहले लेआउट को लिपोफिलिक होने के लिए डिज़ाइन करते हैं, और एक्सपोज़र के दौरान हाइड्रोफिलिक बनने के लिए ध्रुवता को बढ़ाया जाता है, ताकि प्रिंटिंग प्लेट पर एक हाइड्रोफिलिक और ओलेओफ़िलिक क्षेत्र हो और इसे विकसित करने की आवश्यकता नहीं है।
प्रिंटिंग प्लेट की ध्रुवीयता को बदलने के लिए कई डिज़ाइन योजनाएं और विधियाँ हैं। सारांश में, इसे भौतिक मोड और रासायनिक मोड में विभाजित किया जा सकता है। भौतिक ध्रुवीयता परिवर्तन प्लेट में आमतौर पर कुछ हाइड्रोफोबिक थर्मोप्लास्टिक बहुलक कण होते हैं जो हाइड्रोफिलिक बाइंडर राल में बिखरे होते हैं। थर्मोप्लास्टिक कणों का एक महत्वपूर्ण समूह है, जो हाइड्रोफिलिक परत में कणों को एकत्र करने के लिए गर्मी के तहत नरम या पिघला देता है। हाइड्रोफोबिक समुच्चय बीच में बनते हैं। रासायनिक रूप से ध्रुवीकृत प्लैटिनम राल आमतौर पर एक होमोपोलिमर या कॉपोलीमर होता है जिसमें लटकन ध्रुवीय कार्यात्मक समूह होते हैं जो हाइड्रोफोबिक संरचना बनाने के लिए अन्य कार्यात्मक समूहों के साथ थर्मल क्रिया के तहत प्रतिक्रिया करते हैं।
3.2 इन्फ्रारेड पृथक्करण प्रकार मुक्त प्रसंस्करण CTP प्लेट सामग्री
अवरक्त पृथक्करण प्रकार CTP प्लेट एक सकारात्मक प्रकार की थर्मल प्लेट है जो पिघली हुई परत के रूप में धातु का उपयोग करती है। पिघली हुई धातु की परत एक हाइड्रोफिलिक एल्यूमीनियम प्लेट पर लिपटी होती है जो लिपोफिलिक होती है। इमेजिंग तंत्र यह है कि उजागर क्षेत्र में धातु की परत को उच्च-तीव्रता वाले लेजर विकिरण के तहत बूंदों में पिघलाया जाता है, और एल्यूमीनियम प्लेट बेस के साथ संपर्क कोण बड़ा हो जाता है, और इसे विकसित किए बिना हटाया जा सकता है, जिससे हाइड्रोफिलिक प्लेट आधार को उजागर किया जा सकता है। प्रक्रिया को चित्र 6 में दिखाया गया है।
दूसरे को सब्सट्रेट पर एक स्याही-विकर्षक परत को धातु के कणों के साथ फोटोथर्मल रूपांतरण एजेंट के हाइड्रोफिलिक परत के रूप में लागू करना है। स्कैनिंग के दौरान धातु के कणों को उत्सर्जित किया जा सकता है और आसानी से हटाया जा सकता है। वैकल्पिक रूप से, धातु ऑक्साइड या धातु हाइड्रॉक्साइड की हाइड्रोफिलिक परत और एसिड युक्त हाइड्रोक्सी राल को कभी-कभी हाइड्रोफिलिक सतह परत के साथ स्याही-प्राप्त परत पर लेपित किया जा सकता है।
3.3 बेस इंक-फ्री टाइप प्रोसेसिंग-फ्री CTP प्लेट सामग्री
यह एक पानी रहित ऑफसेट प्रिंटिंग प्लेट है। प्लेट को पहले सब्सट्रेट पर एक स्याही-विकर्षक मध्यवर्ती परत के साथ लेपित किया जाता है और फिर स्याही प्राप्त करने वाली परत पर एक विशेष सिलिकॉन कॉपोलीमर के साथ लेपित किया जाता है। यह स्याही-विकर्षक सिलिकॉन कॉपोलीमर गर्मी के प्रति संवेदनशील परत के रूप में कार्य करता है और थर्मल रूप से विघटित होता है। इमेजिंग तंत्र यह है कि उजागर क्षेत्र की गर्मी-संवेदनशील परत एक थर्मल अपघटन प्रतिक्रिया से गुजरती है, और इन विघटित सिलिकॉन कॉपोलिमर को आसानी से एक्सपोज़र प्रक्रिया के दौरान हटा दिया जाता है या एक्सपोज़र के बाद की सामान्य प्रक्रिया के लिए इंटरमीडिएट इंक-रेपिट परत को उजागर किया जाता है।